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广发证券-半导体行业“科创”系列报告:盛美股份,半导体清洗设备领先企业-200618

上传日期:2020-06-18 08:44:29  研报作者:许兴军,罗立波,王亮  分享者:2744801050   收藏研报

【研究报告内容】

精选摘要:18台,排名第二;长江存储、华虹集团(无锡项目广发证券、华力二期项目)共累计采购的200多台清洗设备中,盛美市场份额约21%,排半导体行业“科创”系列报告名第二。募投项目聚焦半导体设备领域,积极布局未来盛美股份。本次公开发行股票拟募集资金,主要投资于盛半导体清洗设备领先企业。”

1. 盛美股份是国内领先清洗设备企业,拓广发证券展设备品类。

2. 公司在半导体清洗设备领域具有多年深厚积淀,以兆声波清洗技术为核心,形成了SAPS、TEBO、Tahoe等产品系列,同时经过多年的技术积累和市场推广,公司在先进封装湿法设备、后道先进封装电镀设备和无应力抛光设备等领域获得了市场的认可,目前公司产品系列分为半导体清洗设备(其中单片式清洗设半导体行业“科创”系列报告备2019年营收占比74.1%,槽式清洗设备占比6.5%、单片槽式组合清洗设备占比3.5%)、半导体电镀设备(占比10.6%)、先进封装湿法设备(占比5.3%)以及其他设备(立式炉管)四大类。

3. 2019年公司实现盛美股份营业收入7.57亿元,同比增38%,实现归母净利润1.35亿元,同比增46%。

4. 清洗设备行业持续向好,国内市场迎来发半导体清洗设备领先企业展机遇。

5. 湿法清洗设备是半导体制造环节中的重要设备,根据Gartner统计数据,20广发证券19年全球半导体清洗设备市场规模为30.49亿美元。

6. 展望未来,其一方面长期受益全球半导体需求增加与产线产能的扩充,另一方面受益于技术的演进带来的增长机遇(制程越先进,清洗步骤越多,清洗难度也越大),同时国内市场受益于政策、资金、市半导体行业“科创”系列报告场三大因素,晶圆厂建厂浪潮将带动国内湿法设备市场的发展。

7. 清洗设备竞争壁垒高企,盛美国盛美股份内竞争地位领先。

8. 根据Gartner2018年的数据,单片式清洗设备几乎被国际四大厂商Sc半导体清洗设备领先企业reen、东京电子、SEMES、Lam占据,其中前两大厂商占全球75%的市场份额。

9. 槽式清洗设备方面,Screen和东京电广发证券子合计占据约80%的市场份额。

10. 国内清洗设备企业中,盛美股份技术、团队与客户优势明显,国内竞争地位领先,已进入行业内半导体行业“科创”系列报告知名半导体制造企业的供应商中,进入了知名客户的多条生产线。

11. 根据公司招股说明书,华虹集团无锡盛美股份项目中标5台清洗设备,占据27%的份额,排名第一;长江存储3DNAND2万片/月产线的设备中标15台清洗设备,仅次于DNS的18台,排名第二;长江存储、华虹集团(无锡项目、华力二期项目)共累计采购的200多台清洗设备中,盛美市场份额约21%,排名第二。

12. 半导体清洗设备领先企业募投项目聚焦半导体设备领域,积极布局未来。

13. 本次公开发行股票拟募集资金,主要投资于盛美半导体设备研发与制造中心(7亿元,占使用募集资金总额18亿元的39%)和盛美半导体广发证券高端半导体设备研发项目(4.5亿元,占比25%),并用以补充企业流动资金(6.5亿元,36%)。

14. 公司募投项目聚焦于自身主业,积极布局未来拥抱下游市场的成长与国产替半导体行业“科创”系列报告代潮流。

15. 风盛美股份险提示。

16. 下游晶圆厂建厂与良率爬坡不及预期风险;国产设备技术突破与订单进度不及预期风险;专利风险;技术更新换半导体清洗设备领先企业代风险。

 报告详细内容请查阅原报告附件
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